本實驗室以學習電子顯微鏡等設備之原理與操作方式,並實際進行各類試片製作、鍍金機操作、試片顯微組織觀察及元素分析。用以加強材料分析基礎理論與實務相互印證,培養研究生微觀結構觀察概念及邏輯思考,解決問題的能力。
X光繞射分析儀(XRD) 規格:樣品晶相的分析與組織結構鑑定。 |
場發射掃描式電子顯微鏡 (FE-SEM) 規格:用於試片表面分析與組成鑑定,型號為 JSM -6335F NT 附有 E DX 可化學元素定性、定量和分佈影像分析 。 |
磁控管收試驗調變器 規格:磁控管,JRC(2M13) |
氣體流量計 規格:氣體質量流量計 |
高真空濺鍍機系統 規格:在真空環境下,通過氬離子電漿轟擊,將靶材以物理濺鍍的方式,在基板上沉積生長成特定的薄膜。
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真空高溫爐(管狀高溫爐) 規格: 管狀高溫爐,STATF-1200X-S |